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  • 在集成電路、半導體和電真空器件制造中用作保護氣和運載氣,化學氣相淀積時的載氣,液體擴散源的攜帶氣,在高溫擴散爐中用作器件的保護氣。高純氮在外延、光刻、清洗和蒸發(fā)等工序中,作為置換、干燥、貯存和輸送用氣體。顯像管制造中要求氮氣純度為99.99%以上。在航天技術中,液氫加注系統(tǒng)必須先用高純氮置換,再用高純氦置換。
  • 工業(yè)氮與高純氮價差很大;壓力高低也有區(qū)別;管道輸送和瓶裝氣體區(qū)別很大。
  • 四氟化碳是一種鹵代烴,化學式CF4。它既可以被視為一種鹵代烴、鹵代甲烷、全氟化碳,也可以被視為一種無機化合物。零下198 C時,四氟化碳具有單斜的結(jié)構,晶格常數(shù)為a = 8.597, b= 4.433, c = 8.381 (.10-1 nm), β = 118.73 。
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